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純氮和高純氮相差只在0.009%之間--高純氮色譜分析儀
純度是氮?dú)獾囊粋€(gè)重要技術(shù)參數(shù),按國(guó)標(biāo)氮?dú)獾募兌确譃楣I(yè)用氮?dú)狻⒓兊透呒兊?jí),它們的純度分別為99.5%(O2≤0.5%),99.99%(O2≤0.01%)和99.999%(O2≤0.001%)。純氮N2 ≥99.99 化工、治金、電子工業(yè) 高純氮N2 ≥99.999 科研、電子、機(jī)械行業(yè)、色譜儀載氣 所以用于制冷劑的話,沒(méi)什么區(qū)別,高純氮主要適用于精密儀器純度≥99.999%的高純氮外(進(jìn)口價(jià)格很高),國(guó)內(nèi)外同行目前一般用PSA制氮技術(shù)只能制取氮?dú)饧兌葹?9.9%的普氮(即O2≤0.1%),個(gè)別企業(yè)可制取99.99%的純氮(O2≤0.01%),純度更高從PSA制氮技術(shù)上是可能的,但制作成本太高,用戶也很難接受,所以用非低溫制氮技術(shù)制取高純氮還必須加后級(jí)純化裝置。
高純氮的性質(zhì): 純度大于99.999%。無(wú)色無(wú)臭無(wú)味無(wú)毒的 惰性氣體。 相對(duì)密度ds(21.1℃,空氣=1)0.967。氣體密度1.153kg/m3(21.1℃,101.3kPa);液體密度808.5kg/m3(-195.8℃,101.3kPa)。 沸點(diǎn)-195.8℃。 熔點(diǎn)-209.9℃。氮?dú)?純化方法主要有吸附法、 變壓吸附法、 膜分離法等。在 集成電路、 半導(dǎo)體和電真空器件制造中用作 保護(hù)氣和運(yùn)載氣, 化學(xué)氣相淀積時(shí)的 載氣,液體擴(kuò)散源的攜帶氣,在高溫?cái)U(kuò)散爐中用作 器件的保護(hù)氣。高純氮在 外延、 光刻、 清洗和 蒸發(fā)等 工序中,作為置換、干燥、貯存和輸送用 氣體。 顯像管制造中要求氮?dú)饧兌葹?9.99%以上。在 航天技術(shù)中, 液氫加注系統(tǒng)必須先用高純氮 置換,再用 高純氦置換。
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