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在線氬氣中痕量N2分析儀基于我們的增強等離子體放電(EPD)技術(shù)。與其他商用等離子技術(shù)相比,結(jié)合了我們獨特的聚焦/穩(wěn)定和電子注入電極和光譜補償技術(shù)。這些獨特的技術(shù)解決了由于流量和壓力變化引起的基線波動問題以及淬滅分子(如H2O) 對測量的影響,從而大大減少了漂移和噪聲。
1.是通過提高電離效率來適當控制等離子體中的能量。 這是通過我們的聚焦/穩(wěn)定和電子注入電極來實現(xiàn)的。 這解決了其他等離子技術(shù)仍受困擾的淬滅問題。
2.使用光譜補償模式。 這由我們專有的嵌入式算法控制器控制,對用戶完全透明。 流量和環(huán)境壓力變化都會導致傳統(tǒng)等離子體發(fā)射技術(shù)的測量誤差。 這是由于等離子體中的功率分布的變化。 我們專有的嵌入式算法通過不斷調(diào)整功率分布并因此補償Bremsstrahlung(等離子基體發(fā)射)波動來克服該問題。 結(jié)果是消除了來自流量和壓力對等離子基體發(fā)射的影響。